수소수 공급장치

    HYZEN MAX

    HJS 의 HYZEN MAX는 반도체 , FPD 세정 공정에 사용되는 수소수를 제조, 공급하는 시스템입니다. 시스템 내부에서 자체 생성한 수소가스를 초순수에 용해 시켜 수소수를 제조 합니다. HYZEN MAX는 뛰어난 PARTICLE 제거 성능을 보여주며 SC-1 대체 등 약품 세정을 대체할 수 있는 친환경 시스템 입니다. HYZEN MAX는 반도체 , FPD 세정 공정 용으로 다양한 고객사와 세정 장비사의 다수의 납입 실적을 보유 하고 있습니다.

    특징

    • 독자적인 기술로 안정적인 수소수 및 암모니아 농도 제어
    • 반도체, FPD 세정 공정에 적합한 고순도 오존수 제조,공급
    • 초음파 진동등의 물리력과 조합하여 Particle 제거
    • 암모니아 첨가 기능으로 수소수 PH를 조절하여
      Particle 재흡착 방지
    • 잉여 수소 가스를 발생시키지 않는 기술과 안전 대책으로
      충분한 안전성 확보
    • MAINTENANCE의 간소화 및 유지 보수 비용 절감 실현
    견적문의
    수소수 공급장치란?

    Wafer나 Glass류의 피세정물 표면에 부착된 Particle을 제거하기 위한 용도로
    사용되는
    수소수를 제조·공급하는 장치로 기존에 사용되는 SC-1(NH4OH+H2O2)와
    같은 약품을 대체할 수 있는 친환경적 기능수 장치입니다.

    모델별 성능표
    Model HHW-1225N HHW-1260N
    수소수 농도 (ppm) 1.0 ~ 1.6 ppm 1.0 ~ 1.6 ppm
    오존수 유량 (L/min) 10 ~ 30 L/min 10 ~ 60 L/min
    암모니아 농도 5 ~ 100 mg/L 5 ~ 100 mg/L
    접액부 재질 액체 : PFA, PTFE, PP 액체 : PFA, PTFE, PP
    가스 : SUS316L, PFA, PP 가스 : SUS316L, PFA, PP
    장비 외형 (mm) 810(W) x 980(D) x 1970(H) 840(W) x 1130(D) x 2010(H)
    수소수 세정 PROCESS 변경
    • 세정 전

      Wafer 또는 Glass 표면에 부착된 Particle 제거를 위해
      수소수+초음파를 조합하여 사용.
      통상 Particle 표면은 +전위, 피세정물의 표면은
      (–)전위 상태로 존재한다.

    • 세정 중반

      LIFT OFF (초음파 물리력 + H2 Bubble)

      피세정물 표면에 있는 Particle을 초음파의
      물리력으로 피세정물 표면으로부터 분리 시키고,
      수소 기포르 Particle을 피세정물 표면으로 부터
      상승 시킴 (Lift Off)

    • 세정 후반

      재부착 방지(암모니아 첨가로 수소수 pH 조정)

      수소수에 희석된 암모니아를 넣어 수소수의
      pH를 알칼리로 바꾸어주면 수소수 자체의
      Zeta Potential값이 마이너스가 되어 분리된
      Particle의 주변을 마이너스 전위로 바꾸어주어
      전기적 반발력으로 Particle이 피세정물 표면에
      재흡착되는 것을 방지