HJS-ENG设备应用领域

    半导体工艺

    • A

      清洗工艺用设备

      • Cleaning

      • O3 Water

      • H2 Water

      • CO2 Water

      • Bellows Pump

    • B

      清洗工艺用设备

      • NIETOP System
        (磷酸工艺稳定化装置)

    • C

      Deposition 工艺用设备(ALD/CVD)

      • O3 Gas Generator